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程序控溫型四坩堝蒸發(fā)鍍膜儀
關鍵字:
程序控溫
型號:
GSL-1700X-EV4
產(chǎn)品概述:
程序控溫型四坩堝蒸發(fā)鍍膜儀GSL-1700X-EV4是一款小型溫控型蒸發(fā)鍍膜儀,內部設有四個蒸發(fā)坩堝,且每個蒸發(fā)坩堝都帶有擋板,最多可放置四種不同的蒸發(fā)物料,可在同一氣氛下依次鍍膜,實現(xiàn)多層膜的沉積工藝,可程序控溫,控溫范圍200-1500度,樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜和有機物薄膜。
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產(chǎn)品型號

GSL-1700X-EV4


產(chǎn)品特點

· 含有四個蒸發(fā)坩堝,可鍍膜4種不同的物料

· 每個坩堝上方均有擋板,保證了蒸發(fā)物料之間不相互污染

· 采用鎢絲藍為發(fā)熱源,最高溫度可到1500度

· 可旋轉樣品臺,保證了薄膜的均勻性


基本參數(shù)

· 電源:AC220V50HZ

· 功率:2.5KW

· 正常工作蒸發(fā)電流25A此電流為電流表上的顯示電流)


溫控系統(tǒng)

工作溫度:

· 最高溫度:1500℃

· 連續(xù)工作溫度:1400℃

· 推薦升溫速率:≤2℃/S,溫度越高升溫越慢

控溫系統(tǒng):

· 宇電30段智能控溫儀,可設置30段升降溫程序

· PID方式調節(jié)溫度

· 帶有溫度上限報警,操過上限溫度會切斷加熱開關,停止加熱

· 控溫精度:±1度

· 熱電偶:4根S型熱電偶

· 系統(tǒng)升溫模式分為自動和手動模式:自動模式下是由控溫儀表按程序

過程進行控溫,手動模式是調節(jié)電流大小來控溫,當前溫度仍可由儀表來顯示。


真空腔室

· 石英罩:外徑φ280*內徑φ262*L310mm

· 四個蒸發(fā)坩堝:每個蒸發(fā)坩堝上配有一個鎢絲藍,容積為3ml

· 四個蒸發(fā)坩堝上的物料可依次進行蒸發(fā),不可同時進行

· 四個蒸發(fā)坩堝上均帶有擋板,每個擋板均由一個電機控制其位置

· 蒸發(fā)坩堝內部配備有專門的隔熱氧化鋁坩堝,熱電偶安裝在坩堝底部,以便于溫度測量和控制。

· 配有裝樣品的氧化鋁坩堝:φ42*36mm

· 真空腔室外有防護網(wǎng)罩

圖片1.png

法蘭和接口

· 基片臺:可裝載基片最大尺寸為φ50mm。

· 基片臺可旋轉,保證鍍膜的均勻性


· 帶一個直徑φ6.35mm的卡套接頭作為進氣口,可通入惰性氣體,面板上有微量調節(jié)閥可調節(jié)進氣量大小

· 帶一個手動放氣閥

· 帶水冷管接頭,保護測厚儀

· 法蘭上可安裝測厚儀探頭(測厚儀為選配)

圖片2.png

真空系統(tǒng)

· 分子泵FF100/110(帶控制器)

· 機械泵 VRD-8

· KF25真空接口

· 真空度:5*10-3Pa(分子泵抽真空1h的數(shù)據(jù)

· 機械泵:2Pa機械抽真空30min的數(shù)據(jù)

· 如果真空度要求不高可不啟動分子泵

· 真空度檢測單元:電離規(guī)和電阻規(guī)


· 顯示儀:復合真空計

圖片3.png

薄膜測厚儀(可選)

· 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上,可實時監(jiān)測薄膜的厚度,分辨率為0.10 ?  

· LED顯示屏顯示,同時也可輸入所制作薄膜的相關數(shù)據(jù)

圖片4.png  圖片5.png

水冷設備(選配)

· 型號:KJ-5000

· 工作電流:1.4-2.1A

· 制冷量:2361Btu/h

· 尺寸:55×28×43cm(長×寬×高)

· 水箱容量:6L

· 水流速率:16L/min

圖片6.png

外形尺寸

1300長*650寬*1450mm高

圖片7.png

重量

120KG


保質期

1年(不包含爐管、O型圈、加熱元件等損耗件)



使用注意事項

· 石英管內的氣壓不可高于0.02MPa;

· 氣瓶上必須安裝減壓閥;

· 對于樣品加熱的實驗,不建議關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關閉氣閥對樣品加熱,則需時刻關注壓力表的示數(shù),若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa,必須立刻打開氣閥,以防意外發(fā)生(如爐管破裂,法蘭飛出等)

· 我們不建議客戶使用易燃易爆和有毒的氣體,如果客戶工藝原因確實需要使用易燃易爆和有毒氣體,請客戶自行做好相關防護和防爆措施。由于使用易燃易爆和有毒氣體而造成的相關問題,本公司概不負責。


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