| 設(shè)備名稱 | 粉末旋轉(zhuǎn)RF磁控濺射包覆爐 |
| 特點(diǎn) | · 可對粉體材料進(jìn)行表面包覆：采用磁控濺射，濺射時粉體材料在腔體內(nèi)翻滾，達(dá)到粉體表面均勻包覆； · 可抽真空、通氣氛 |
| 基本參數(shù) | · 電源：AC 220V 50HZ · 功率：＜1500W |
| 射頻電源 | · 輸入電源：220V 3A · 輸出功率：0-300W · 輸出頻率：13.56 MHZ · 冷卻方式：設(shè)備內(nèi)部的冷卻方式為風(fēng)冷 · 尺寸：444（長）*410（寬）*128（高）
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| 磁控濺射頭 | ·2英寸磁控濺射頭（帶有水冷夾層），采用快速接頭與真空腔體相連接 ·靶材尺寸要求：φ50*（0.1-5）mm厚
·2英寸磁控濺射頭可承受最大射頻功率：300W ·2英寸磁控濺射頭可承受最大直流功率：500W |
| 靶材 | · 適合濺射金、銀、鋁、銅等金屬，對基片的損傷和基片溫升比較少 · 標(biāo)配一塊銅靶，φ2″*3mm · 靶材尺寸要求：φ2″×（0.1-5）mm厚度 |
| 濺射腔室 | · 濺射腔室為異形的連熔爐管，尺寸：φ130*700/φ180*300mm · 腔室可旋轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速1-10rpm可調(diào)，速度通過前面板上的調(diào)速器調(diào)節(jié)，顯示屏顯示轉(zhuǎn)速 · 腔體兩端采用磁流體法蘭與不銹鋼密封法蘭通過快速連接的方式進(jìn)行密封，法蘭兩端安裝有支撐架支撐磁流體法蘭。卸料時拆掉兩端磁流體法蘭，將爐體傾斜（由前面板的旋鈕控制），即可快速出料 · 左端法蘭上安裝了一個φ6.35的卡套接頭作為進(jìn)氣口使用，一個不銹鋼針閥控制進(jìn)氣的通斷；一個量程為-0.1-0.15MPa的機(jī)械壓力表用于觀察爐管內(nèi)壓力；一個φ19mm的通孔用于通入濺射靶頭到腔室內(nèi)部 · 右端法蘭上的一個φ8mm的寶塔嘴接頭作為出氣口使用，一個不銹鋼針閥控制出氣的通斷，一個KF25的接頭與真空系統(tǒng)相連；一個KF16的接口作為備用接口，可選配安裝數(shù)顯真空計； · 右端法蘭在腔體內(nèi)的位置安裝了一個石英檔板，檔板上安裝了四個不銹鋼擋條用于攪拌打散物料，使其能充分濺射。
· 腔體頂部安裝了一個防護(hù)罩，以屏蔽等離子體，防護(hù)罩頂部有一個長寬為240mm的石英觀察窗口，可以觀察物料濺射情況。 |
| 真空系統(tǒng)（選配） | · 型號：VRD-8 · 抽氣速率：2.2 L/S · 電機(jī)功率：370 W · 極限壓強(qiáng)：5×10-1Pa（不帶負(fù)載） · 實(shí)際壓強(qiáng)：≤5 Pa（冷態(tài)下機(jī)械泵抽20分鐘） · 如果想要獲得更高的真空度（10-5toor or better）可選購國產(chǎn)或進(jìn)口高真空機(jī)組
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| 水冷設(shè)備（選配） | · 型號：KJ-5000 · 工作電流：1.4-2.1A · 制冷量：2361Btu/h · 尺寸：55×28×43cm（長×寬×高） · 水箱容量：6L · 水流速率：16L/min
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| 設(shè)備外形尺寸 | 1500mm（L）*1000mm（W）*1500mm（H）防護(hù)罩打開時的尺寸 |
| 重量 | 約100kg |
| 保質(zhì)期 | 1年（不包密封圈等損耗件） |
| 注意事項(xiàng) | · 腔室內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa（相對氣壓）； · 由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高，所以向石英管內(nèi)通入氣體時，氣瓶上必須安裝減壓閥，為了確保安全，建議使用壓力低于0.02MPa，建議在本公司選購減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全； · 對于樣品加熱的實(shí)驗(yàn)，不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進(jìn)氣閥使用。若需要關(guān)閉氣閥對樣品加熱，則需時刻關(guān)注壓力表的示數(shù)，若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa，必須立刻打開泄氣閥，以防意外發(fā)生（如爐管破裂，法蘭飛出等） · 我們不建議客戶使用易燃易爆和有毒的氣體，如果客戶工藝原因確實(shí)需要使用易燃易爆和有毒氣體，請客戶自行做好相關(guān)防護(hù)和防爆措施。由于使用易燃易爆和有毒氣體而造成的相關(guān)問題，本公司概不負(fù)責(zé)。 |
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