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1200℃雙溫區(qū)坩堝移動管式爐
型號:
OTF-1200X-II-SF-DVD
產(chǎn)品概述:
OTF-1200X--II-DVD 是一款真空或氣氛下坩堝可在爐管內(nèi)移動 (伺服電機+減速機+壓縮真空波紋管) 小型開啟式管式爐系統(tǒng),最高溫度 1200℃,兩個溫區(qū)有獨立的控溫儀表控制溫度,通過觸摸 屏可以設(shè)置樣品或坩堝在爐管內(nèi)的位置,以及讀取樣品在管內(nèi)的實時溫度,此設(shè)備可以進行鈦片退火處理、快速熱處理,例如混合物理化學沉 積 (HPCVD),快速熱蒸發(fā) (RTE),以及在各種氣氛下進行的水平布里奇曼 晶體生長 (HDC),用于新一代晶體研究。
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技術(shù)參數(shù)產(chǎn)品視頻實驗案例警示/應(yīng)用提示配件詳情
名稱型號

·坩堝移動管式爐  OTF-1200X-DVD


產(chǎn)品特點

·通過伺服電機+減速機+壓縮真空波紋管實現(xiàn)坩堝在管內(nèi)移動

·坩堝底部有測溫熱電偶實時檢測樣品溫度

·左端法蘭采用卡箍連接方便取放樣品

·可選擇改造為雙溫區(qū)管式爐,但需額外付費,以產(chǎn)生更高的熱梯度或更 長的恒溫區(qū)。


雙溫區(qū)加熱爐系統(tǒng)

·輸入電源 AC 單相 220V 50/60HZ,最大功率:3.5KW

·最高工作溫度:1200℃ (<30min),長期工作溫度:1100℃ 

·兩個溫區(qū)有獨立的控溫儀表控制溫度

·熱電偶兩根:三根進口K型熱電偶,兩根用于爐子控溫,一根檢測樣品溫度。

·加熱元件:摻鉬鐵鉻鋁合金

·加熱區(qū)長度:400mm

·推薦升溫速率:10℃/min

·石英管 外徑80mm x 內(nèi)徑74mm x 1000mm L

·包含一款 518P 型溫度控制器(也可選配歐陸儀表恒溫精度可達±0.1℃)

·PID 自動控溫系統(tǒng)

·智能化 30 段可編程控制

·控溫精度:±1℃

·默認 DB9 PC 通信連接端口

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不銹鋼密封法蘭系 統(tǒng)

·不銹鋼密封法蘭,密封法蘭和石英管之間采用硅膠 O 型圈+壓環(huán)型圈密封方式。

·左端法蘭裝有機械壓力表和進氣截止閥,1/4 英寸進氣口,用卡箍連接,方便拆卸, 如下圖。

·左端法蘭和無桿氣缸連接側(cè)有石英隔熱擋板和石英坩堝,熱電偶測溫點位于樣品正下 方。如下圖

·左端法蘭+無桿氣缸放置在直線滑臺上。

·右端法蘭上裝有出氣截止閥,一個 KF25 接口用于抽真空。

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坩堝移動+PLC 系統(tǒng)

·通過觸摸屏可視化控制操作

·一個 K 型的鎧裝熱電偶通過法蘭伸入到爐管中,并可隨坩堝移動,可實時監(jiān)測樣品的實際溫度。

·通過伺服電機+減速機+壓縮真空波紋管來控制移動爐管內(nèi)的坩堝 (樣品臺),最大行程為200mm。

·在移動的過程中 保證整體密封性

·通過觸摸屏設(shè)定坩堝一定的距離和目標位置,坩堝移動速度為1mm/小時(可根據(jù)要求提供變速控制,需要定制速度購買前請與銷售溝通,但需額外付費) 。

·在熱電偶上安裝了一個微型坩堝舟。

·可根據(jù)要求提供用于晶片的氮化鋁樣品架或石墨平板基底支架,將收取額外的定制費

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真空系統(tǒng) (選配)

·配套機械泵,真空度可以達到10-2ttor

·配套分子泵,真空度可以達到10-5ttor

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產(chǎn)品尺寸

·外形尺寸:2400X450X700mm(長*寬*高)


重量

·約150kg


保質(zhì)期

·1年(不包含爐管,氟膠O型圈和加熱元件等損耗件)


注意事項

·石英管內(nèi)氣壓不可高于 0.02MPa;

·由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高,所以向石英管內(nèi)通入氣體時,氣瓶上必須安裝減壓閥,為了確保安全,建議使用壓力低于0.02MPa,建議在本公司選購減壓閥,本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全;

·對于樣品加熱的實驗,不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關(guān)閉氣閥對樣品加熱,則需時刻關(guān)注壓力表的示數(shù),若氣壓表示數(shù)大于 0.02MPa,必須立刻打開泄氣閥, 以防意外發(fā)生 (如爐管破裂,法蘭飛出等)

·我們不建議客戶使用易燃易爆和有毒的氣體,如果客戶工藝原因確實需要使用易燃易爆和有毒氣體,請客戶自行做好相關(guān)防護和防爆措施。由于使用易燃易爆和有毒氣體而造成的相關(guān)問題,本公司概不負責。


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