設(shè)備名稱 | 1200℃雙溫區(qū)連續(xù)生長(zhǎng)卷對(duì)卷PECVD系統(tǒng)(φ80mm x 1400 mm,溫區(qū)長(zhǎng)440mm)—OTF-1200X-II-PE-RR (2019.12.25—科晶實(shí)驗(yàn)室審核) |
||||||||||||||||||||||||||||||||
產(chǎn)品提示 | 1、多種配件可選提示 2、特殊設(shè)備尺寸設(shè)備 3、科晶實(shí)驗(yàn)室邀請(qǐng)?zhí)崾?/span> 4、配件妥善保管提示 |
||||||||||||||||||||||||||||||||
產(chǎn)品特點(diǎn) | ? 射頻電源可實(shí)現(xiàn)等離子增強(qiáng)從而顯著降低實(shí)驗(yàn)溫度; ? 質(zhì)子流量計(jì)控制系統(tǒng)可以對(duì)氣體的輸送進(jìn)行精確的調(diào)控; ? 收放卷機(jī)構(gòu)別放置于管式爐兩端真空腔體內(nèi),可保證銅箔在密閉的生長(zhǎng)條件下進(jìn)行運(yùn)動(dòng),可有效的實(shí)現(xiàn)大規(guī)模制備。 |
||||||||||||||||||||||||||||||||
加熱爐參數(shù) | ? 最高溫度:1100oC(<30min);連續(xù)工作溫度:< 1000℃; ? 工作電源:AC 220V,50/60Hz,功率:3KW; ? 兩個(gè)PID溫度控制器以及50段可編程溫控系統(tǒng),控溫精度:±1℃; ? 爐膛保溫材料采用高純氧化鋁多晶纖維,并且內(nèi)爐膛表面涂有美國進(jìn)口的高溫氧化鋁涂層,可以提高加熱效率,反射率及延長(zhǎng)儀器的使用壽命。 更多參數(shù)請(qǐng)聯(lián)系科晶銷售部 |
||||||||||||||||||||||||||||||||
卷對(duì)卷銅箔收放密封裝置 | ? 采用卷對(duì)卷收放卷機(jī)構(gòu)進(jìn)行銅箔的移動(dòng)及進(jìn)出料,銅箔的移動(dòng)速度為1-400mm/min可調(diào); ? 配置一卷約5 kg的銅箔,銅箔寬度:65mm,銅箔厚度0.025mm; ? 收卷機(jī)構(gòu)與管式爐之間設(shè)置冷卻裝置用于銅箔的快速冷卻; ? 可根據(jù)要求提供特定的卷繞速度控制器及密封法蘭。 |
||||||||||||||||||||||||||||||||
石英氣體噴嘴 | ? 石英氣體噴嘴可將反應(yīng)氣體與緩沖清洗氣體分開通入,有效地減少副反應(yīng)發(fā)生,實(shí)現(xiàn)高端CVD工藝,如局部控制前體濃度化學(xué)氣相沉積工藝或單晶二維材料薄膜的生長(zhǎng)工藝等。 |
||||||||||||||||||||||||||||||||
射頻電源 | ? 科晶公司現(xiàn)有不同功率的射頻電源可供選擇,以滿足不同實(shí)驗(yàn)條件的需求。
|
||||||||||||||||||||||||||||||||
真空系統(tǒng) | ? 采用TRP-12的雙旋真空泵; ? KF25卡箍及波紋管用于連接管式爐與真空泵; ? 真空度可達(dá)10-2Torr。 |
||||||||||||||||||||||||||||||||
供氣系統(tǒng) | ? 四通道質(zhì)子流量計(jì)控制系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)氣體流量的精確控制(精確度:±0.02%); ? 流量范圍:
? 電壓:208-240V, AC, 50/60Hz; ? 氣體進(jìn)出口配件:6mm OD的聚四氟管或不銹鋼管; ? 不銹鋼針閥用于手動(dòng)控制氣體進(jìn)出; ? PLC觸摸屏可以簡(jiǎn)便地進(jìn)行氣體流量設(shè)置。 |
||||||||||||||||||||||||||||||||
產(chǎn)品尺寸和重量 | ? 整體尺寸:2400 mm L ′600mmW′1250mm H; ? 凈重:260kg; ? 運(yùn)輸重量:500 kg。 |
||||||||||||||||||||||||||||||||
認(rèn)證 | ? 如您另外付費(fèi),我們可以保證單臺(tái)儀器的TUV(UL61010)或CSA 認(rèn)證 |
||||||||||||||||||||||||||||||||
承諾 | ? 一年質(zhì)保期,終身維護(hù)(不包括爐管、硅膠密封圈和加熱元件) |
科晶應(yīng)用技術(shù)實(shí)驗(yàn)室利用PECVD在不同功率(75W、150W、300W)條件下沉積Sb2Se3薄膜,實(shí)驗(yàn)結(jié)果如下:
組別 | SEM結(jié)果 | 元素百分比 | ||
Sb(%) | Se(%) | |||
未經(jīng)任何處理的樣品 | 40.01 | 59.99 | ||
75W等離子體處理5 min | 41.04 | 58.96 | ||
150 W等離子體處理5 min | 41.64 | 58.36 | ||
300 W等離子體處理5 min | 41.86 | 58.14 |
小結(jié):
(1)等離子體能改變Sb2Se3薄膜的形貌,同時(shí)改變Sb2Se3的組成;
(2)隨著射頻電源功率的增加,Sb2Se3中的Se百分含量降低。
組別 | SEM結(jié)果 | 元素百分比 | ||
Sb(%) | Se(%) | |||
10W、3Pa條件下沉積Sb2Se3 | 40.01 | 59.99 | ||
75W、133Pa條件下沉積Sb2Se3 | 70.28 | 29.72 | ||
75W、3Pa且補(bǔ)充0.1g Se粉沉積Sb2Se3 | 43.13 | 56.87 | ||
75W、3Pa且補(bǔ)充0.02g SnSe2粉末(10%質(zhì)量比Sb2Se3)沉積Sb2Se3 | Sn: 22.78 Sb: 25.77 | 51.44 |
小結(jié):
(1)低功率等離子體條件下可得到近原子比的Sb2Se3;
(2)高壓條件下可得到富Sb的Sb2Se3薄膜;
(3)添加Se會(huì)破壞PECVD沉積的Sb2Se3的原子比;
(4)當(dāng)SnSe2質(zhì)量比為10%時(shí),可以得到Sb:Sn摩爾比接近于1的薄膜,該方法適用于摻雜。
XRD結(jié)果
警示 | ? 爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02 MPa; ? 由于氣瓶?jī)?nèi)部氣壓較高,所以向爐管內(nèi)通入氣體時(shí),氣瓶上必須安裝減壓閥,建議在本公司選購減壓閥,本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時(shí)會(huì)更加精確安全; ? 石英管的長(zhǎng)時(shí)間使用溫度<1100℃; ? 當(dāng)爐體溫度高于1000℃時(shí),爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài),爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當(dāng),保持在常壓狀態(tài); ? 射頻電源工作時(shí),請(qǐng)勿觸碰。 |
應(yīng)用技術(shù)提示 | ? 通入爐內(nèi)氣體流量需小于200 sccm,以避免冷的大氣流對(duì)加熱石英管造成沖擊; ? 加熱時(shí),不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進(jìn)氣閥。若需要關(guān)閉氣閥對(duì)樣品加熱,則需時(shí)刻關(guān)注壓力表的示數(shù),若氣壓表示數(shù)大于0.02 MPa,需立刻打開泄氣閥,以防意外發(fā)生(如爐管破裂、法蘭飛出等); ? 射頻電源在低氣壓、低功率條件下起輝。 |
Copyright © 2019 合肥科晶材料技術(shù)有限公司 版權(quán)所有 皖I(lǐng)CP備09007391號(hào)-1 皖公網(wǎng)安備 34012302000974號(hào)