| 產(chǎn)品名稱 | 1100℃真空箱式爐（配7.6L腔室,直通法蘭）-VBF-1200X-H8 |
| 產(chǎn)品提示 | |
| 工作原理 | · 加熱爐利用電流使?fàn)t內(nèi)加熱元件發(fā)熱，采用固態(tài)繼電器進行電路控制，采用溫度傳感器（熱電偶）檢測爐內(nèi)溫度，熱電偶檢測到的溫度反饋到控溫儀表。 · 智能控溫儀可設(shè)置升溫過程（升溫速度），儀表采集到熱電偶反饋的爐內(nèi)溫度信號，會通過PID調(diào)節(jié)輸出合適的電壓信號，固態(tài)繼電器接收到儀表的輸出信號， 控制自身的通斷時間從而達到調(diào)節(jié)爐內(nèi)溫度穩(wěn)定的目的，使得高溫爐按照控溫儀設(shè)置好的升溫過程進行升溫。 |
| 產(chǎn)品特點 | · 超大口徑的石英爐膛和真空密封法蘭系統(tǒng)，既可以作為箱式爐對大批量樣品進行燒結(jié)，同時也可以在流動氣氛和真空狀態(tài)下快速加熱樣品。
· 爐膛采用高純氧化鋁聚輕材料，很大程度減少能量損失，內(nèi)爐膛表面涂有美國進口的高溫氧化鋁涂層可以提高設(shè)備的加熱效率，同時也可以延長儀器的使用壽命。 |
| 基本參數(shù) | · 額定功率：4KW · 電壓：AC 220V, 50Hz · 加熱區(qū)尺寸：Φ240*210mm
·最高使用溫度：1100度（≤30min） 工作溫度：1000度 ·建議升溫速率：≦10℃/min ·加熱元件:電阻絲（摻鉬鐵鉻鋁合金）
更多參數(shù)請聯(lián)系科晶銷售部請聯(lián)系我們 |
| 腔體尺寸 | · 石英腔體Φ200×340mm |
| 石英樣品平臺 | · 標(biāo)配一個8″的石英樣品平臺，將樣品放置在平臺上進行退火 · 也可選配石英晶片舟以對最大 6" 的晶片進行退火 |
| 溫控系統(tǒng) | · 智能控溫儀 · 50段程序控溫 · 熱電偶采用K型熱電偶 · 控溫精度：±1℃ · 可選配電腦溫度控制軟件
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| 產(chǎn)品在線展示 |
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| 外形尺寸 | 560長*600寬*710mm高
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| 真空法蘭 | · 帶兩個快速連接端口的不銹鋼水冷法蘭組件。所有密封件均由硅膠O型圈密封 · 一個機械壓力表安裝在法蘭上，范圍-0.1 到 0.15Mpa（可選配數(shù)顯真空計） · 進氣口為G1/4不銹鋼氣嘴接頭、出氣口為KF25的真空接口，設(shè)備可以在流動氣氛和真空狀態(tài)下快速加熱樣品
· 標(biāo)配1 個鉆孔的泡沫耐火砌塊，可選配K型熱電偶通過法蘭上的快速鏈接端口進入爐膛內(nèi)檢測設(shè)備溫區(qū)的均勻性
· 真空度：10-2torr(用機械泵） · 如您想獲得更高的真空度（＜10-5torr）可選國產(chǎn)或進口高真空機組 |
| 水冷設(shè)備（選配） | · 型號：CW-3000 · 工作電壓： AC 208-240V, 50/60Hz · 工作電流： 0.9A · 出入口 外徑： Φ 10mm銅咀 · 水流速率： 10 L / min · 水箱容量： 9 L · 設(shè)備尺寸： 470 * 270 * 370 mm(L x W x H)
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| 重量 | 約60Kg |
| 質(zhì)保 | 1年（不包含密封圈、石英管、加熱元件等損耗件） |
案例一
科晶實驗室采用VBF-1200X-H8設(shè)備對銅環(huán)進行氬氣保護下退火，結(jié)果如下：
實驗設(shè)備連接 | 退火前 | 退火后 | 結(jié)果分析 |
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| （1）退火后金屬光澤明顯； （2）平坦載物平臺有利于保證銅環(huán)在退火過程中不發(fā)生形變。 |
若有疑問或需要更多詳細(xì)數(shù)據(jù)請聯(lián)系科晶實驗室
案例二
通過匹配能帶與兩個半導(dǎo)體建立異質(zhì)結(jié)可以極大地提高光催化性能。因此，一種新的利用原位熱液沉淀法合成了In2O3/Ag2CO3s方案異質(zhì)結(jié)。通過DFT計算證明，s型異質(zhì)結(jié)In2O3/Ag2CO3系統(tǒng)中光致電子的傳輸機制如下，內(nèi)部電場(IEF)由In2O3/Ag2CO3的s型異質(zhì)結(jié)驅(qū)動了光源電子fr由碳酸銀導(dǎo)帶直接轉(zhuǎn)移到In2O3價帶，可使光致電子空穴對的有效分離。In2O3/Ag2CO3的光致發(fā)光壽命大大延長到8.42ns，而空穴和羥基自由基是最重要的活性自由基。在可見光下，Ag2CO3的氣色結(jié)對左氧氟沙星的光降解率（86.1%）和礦化能力（46.2%）最高。
部分檢測數(shù)據(jù)如下：
應(yīng)用技術(shù)提示 | · 此款設(shè)備嚴(yán)禁正壓使用。 · 使用此款設(shè)備進行高溫?zé)Y(jié)，必須連接水冷機才可進行操作，以避免高溫密封硅膠圈融化。 · 設(shè)備可在加熱之前將腔體抽成真空狀態(tài)，保壓，在整個加熱過程中時腔體保持真空狀態(tài)（此過程溫度不可高于1000℃）。 · 常壓下設(shè)備加熱，需將出氣閥打開，防止加熱時氣體膨脹壓力升高而造成危險。 · 在通入流動性氣氛的情況下，需將出氣閥打開，調(diào)節(jié)流量，保證腔室中的壓力始終維持在0MPa處。 · 必須在氣瓶上安裝減壓閥，減壓閥的壓力限制在0.02MPa以內(nèi)，以確保安全運行。 · 降溫時請利用程序降溫，不建議直接按“STOP”鍵降溫，設(shè)備溫度在500度以上時不要直接關(guān)掉設(shè)備電源，防止出現(xiàn)安全問題。 |
注意事項 | · 設(shè)備在加熱之前將腔室抽成真空狀態(tài)，保壓，在整個加熱過程中使腔室保持真空狀態(tài)； · 設(shè)備在常壓下加熱，需將出氣閥打開，防止加熱時氣體膨脹壓力升高而造成危險； · 在通入流動性氣氛的情況下，需將出氣閥打開，調(diào)節(jié)流量，保證腔室中的壓力始終維持在0MPa處 · 設(shè)備使用的氣瓶需安裝減壓閥，減壓閥的壓力限制在0.02MPa以內(nèi)，氣瓶靠墻放置并固定住 · 不得通氯化物、硫化物等易腐蝕的氣體，否則容易損壞法蘭，波管（選配）等不銹鋼材質(zhì)的配件，由于通入腐蝕性氣體而造成的設(shè)備損壞公司售后維修會收取相應(yīng)的費用 · 設(shè)備使用水冷時，冷卻水的壓力要≤0.2MPa |
真空法蘭 | · 前門采用安裝在爐體上的可開啟式鉸鏈法蘭密封。 · 不銹鋼密封法蘭上設(shè)置有兩個1/4英寸鎧裝口。 · 一個1/4進氣口，可選購一根石英管（Φ6.35mm）直接將反應(yīng)氣體通入到樣品處。 · 一個1/4熱電偶饋通端口可選配一根1/4 O.D熱電偶探頭插入反應(yīng)室并獨立測量樣品的溫度。還可應(yīng)要求提供四個探頭電阻測量饋通。 · 標(biāo)配有一塊氧化鋁泡沫陶瓷管堵和一個石英平臺
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可選配件 | · 可選購4電極（鉑絲），用于測量樣品在高溫環(huán)境下的阻值。 · 可選購石英管堵，能提高腔體的潔凈度，可幫助獲得更高的真空度。
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PC控制(選配） | · 請在購買爐子前，準(zhǔn)備一臺電腦。 · 可選購MTS-02?控制軟件，可在電腦上顯示和設(shè)定壓力和溫度程序，以達到遠(yuǎn)程控制。 · 購買帶有PC控制的加熱爐，如有疑問請聯(lián)系我們的銷售人員。
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坩堝(選配） | · 實驗時請選用匹配的坩堝（具體型號請咨詢銷售）來盛放樣品。  |
水冷機(選配） | · 可選購水冷機降低法蘭總成溫度，避免高溫密封硅膠圈融化。
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真空配件(選配） | · 真空可選配件包括真空泵，波紋管和手動擋板閥。
· 對于易損耗件高溫硅膠O型密封圈除了標(biāo)配數(shù)量外可進行額外訂購。
· 機械真空計（作為設(shè)備標(biāo)配），范圍從-0.1到0.15Mpa。 · 可選配防腐型數(shù)顯真空表，測量范圍為3.8×10E -5至1125 Torr之間。除了具有較高的精度和重復(fù)性及較短的響應(yīng)時間外，該儀表還降低了由于氣體類型依賴性而造成的氣壓讀數(shù)錯誤從而導(dǎo)致的腔室爆炸風(fēng)險。
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真空泵組(選配） | 此設(shè)備也可以進行抽真空，配合本公司生產(chǎn)的真空泵組
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