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ScO2截止面GdScO3晶體基片
產(chǎn)品概述:
GdScO3基底是原子光滑的(110)晶面GdScO3,其中通過特殊蝕刻處理晶體表面獲得單位晶胞高度。 通過反射高能電子衍射和原子力顯微鏡驗(yàn)證,GdScO3膜在晶體表面上的同質(zhì)外延以完美的逐層模式進(jìn)行。 該技術(shù)提供了明確限定的襯底表面,用于這種鈣鈦礦氧化物薄膜的原子調(diào)節(jié)外延生長(zhǎng)。
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產(chǎn)品名稱

ScO2截止面GdScO3晶體基片

技術(shù)參數(shù)

ScO2截止面GdScO3晶體基片 1.png

 常規(guī)晶向:

 常規(guī)尺寸:10x10x0.5mm,  5x5x0.5mm ; 

 拋光情況:?jiǎn)螔?/p>

 表面終止:ScO2層(通過特殊蝕刻)

 表面粗糙度:Ra<5 ?;


     ScO2截止面GdScO3晶體基片.png

 GdScO3 (110)晶面的ScO2截止面原子力圖


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