- 加熱爐設(shè)備
- 晶體及材料
- 破碎/球磨設(shè)備
- 壓片設(shè)備
- 輥壓設(shè)備
- 切割設(shè)備
- 磨拋設(shè)備
- 清洗設(shè)備
- 電池研發(fā)設(shè)備
- 薄膜制備
- 配件
- 其它實驗室設(shè)備
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技術(shù)參數(shù)產(chǎn)品視頻實驗案例警示/應用提示配件詳情
技術(shù)參數(shù)
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晶體結(jié)構(gòu): | 立方 a =5.4505 ? | 生長方法: | 提拉法 | 密度: | 4.13 g/cm3 | 熔點: | 1480 ℃ | 熱膨脹系數(shù): | 5.3 x10-6 | 摻雜物質(zhì): | 摻S ;不摻雜 | 熱傳導率: | 2~8 x1017/cm3 ;4~ 6 x1016/cm3 | 電阻率W.cm: | ~0.03 ;~0.3 | EPD (cm-2 ): | < 3x10E5 ;< 3x10E5 |
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常規(guī)尺寸
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常規(guī)晶向:<111>;常規(guī)尺寸:10x10x0.5mm、dia2"x0.5mm;拋光情況:單拋或雙拋; 注:可按客戶需求定制相應的方向和尺寸。 |
備注
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1000級超凈室100級超凈袋 |
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