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Ge晶體
產(chǎn)品概述:
Ge?主要用途有:制作半導(dǎo)體器件、紅外光學器件及太陽能電池襯底等材料。
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產(chǎn)品名稱

Ge晶體基片

技術(shù)參數(shù)

晶體結(jié)構(gòu):                  

立方晶系

晶格常數(shù):

5.6754 ?

密度:

5.323 g/cm3 

熔點:

937.4 ℃

介電常數(shù):

16.2

熱導(dǎo)率(w/m·k):

60.2

摻雜物質(zhì):

不摻雜;摻Sb;摻In或Ga;

類型:

N型 和 P型

電阻率 W·cm:

>35  0.05  0.05-0.1

EPD:

< 4x103/cm2    < 4x103/cm2   < 4x103/cm2  

生長方法:

直拉法

產(chǎn)品規(guī)格

常規(guī)晶向:                  

<100>、<110>、<111>

晶向公差:

±0.5°

常規(guī)尺寸:

10x10x0.5mm,10x5x0.5mm,dia2",dia3"           

拋光情況:

單拋、雙拋

表面粗糙度:

< 5A

注:尺寸及方向可按照客戶要求定做。

晶體缺陷

人工生長單晶有可能存在晶體內(nèi)部缺陷。

標準包裝

1000級超凈室,100級超凈袋或單片盒封裝

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