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1200℃ALD-PECVD管式爐系統(tǒng)
- 型號(hào):
- ALD-1200X-4
- 產(chǎn)品概述:
- ALD-1200X-4是一款4英寸管式爐系統(tǒng),包含用于原子層沉積的2個(gè)ALD進(jìn)氣閥、1個(gè)精密液體氣相發(fā)生器以及用于CVD生長(zhǎng)納米材料和薄膜材料的4通道質(zhì)子流量計(jì)控制系統(tǒng)。該管式爐系統(tǒng)簡(jiǎn)潔的設(shè)計(jì)使得更多的科研院所能夠在可負(fù)擔(dān)的低成本情況下實(shí)現(xiàn)ALD工藝實(shí)驗(yàn)。
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技術(shù)參數(shù)產(chǎn)品視頻實(shí)驗(yàn)案例警示/應(yīng)用提示配件詳情
控制面板
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· 蒸汽壓力、ALD以及氣體流量參數(shù)均可通過一6英寸接觸屏由PLC進(jìn)行控制 · 兩個(gè)ALD進(jìn)氣閥 · 請(qǐng)點(diǎn)擊下圖查看控制面板(點(diǎn)擊圖片查看詳細(xì)資料)
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產(chǎn)品特點(diǎn)
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1.配備雙通道ALD氣閥 2.配備氣液混合系統(tǒng) 3.多種加熱區(qū)與質(zhì)子流量計(jì)規(guī)格可選 4.模塊化設(shè)計(jì),自由的搭建方案
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ALD進(jìn)氣閥
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兩個(gè)ALD脈沖電磁閥(最小可在10ms完成閥門的開啟或關(guān)閉) |
精密液體氣相發(fā)生器
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精密液體氣相發(fā)生器包含在本系統(tǒng)中并且連接到ALD進(jìn)氣閥 |
雙溫區(qū)管式爐
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· 連續(xù)工作的最高溫度為1100℃ · 兩個(gè)溫區(qū)由兩個(gè)獨(dú)立的溫控系統(tǒng)來(lái)控制,而且都為50段程序化控溫 · 每個(gè)加熱區(qū)長(zhǎng)度為200mm,加熱區(qū)總長(zhǎng)度為400mm · 爐管兩端放置管堵時(shí)兩溫區(qū)的最大溫度差為500℃ · 輸入電壓:208-240V AC,單向 · 最大功率為4KW |
防腐型數(shù)顯真空計(jì)
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· 測(cè)量范圍:3.8x10-5 -1125 Torr · 耐腐蝕 · 對(duì)于氣體的壓力檢測(cè)具有較高的精確度和重復(fù)性 · 可實(shí)現(xiàn)快速的氣體監(jiān)測(cè),響應(yīng)時(shí)間較短 · 易于更換插頭及傳感元件
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真空泵(選配)
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· 管內(nèi)真空度可達(dá)10-2Torr · 真空泵不包含在本系統(tǒng)內(nèi),如您進(jìn)行CVD實(shí)驗(yàn)可點(diǎn)擊下圖選購(gòu)無(wú)油渦旋真空泵
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混氣系統(tǒng)?
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· 可選購(gòu)氣液混合裝置,用于CVD系統(tǒng) · 可選購(gòu)恒溫控制模塊
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更新觀念
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· 您可采用ALD設(shè)備搭建等離子增強(qiáng)原子層沉積+化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PE-ALD+CVD)和等離子增強(qiáng)原子層沉積+物理氣相沉積+化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PE-ALD+PVD+CVD),用于生長(zhǎng)各類材料 · ( PE-ALD+CVD) ( PE-ALD+PVD +CVD)
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質(zhì)保期
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一年保質(zhì)期,終身維護(hù)(不包含爐管,加熱元件和密封圈)
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質(zhì)量認(rèn)證
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· 如您另付費(fèi)用,我們可保證單臺(tái)儀器通過TUV(UL61010)或CSA認(rèn)證
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注意事項(xiàng)
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· 爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa · 由于氣瓶?jī)?nèi)部氣壓較高,所以向爐管內(nèi)通入氣體時(shí),氣瓶上必須安裝減壓閥,建議在本公司選購(gòu)減壓閥,本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時(shí)會(huì)更加精確安全 · 當(dāng)爐體溫度高于1000℃時(shí),爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài),爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當(dāng),保持在常壓狀態(tài) · 進(jìn)入爐管的氣體流量需小于200SCCM,以避免冷的大氣流對(duì)加熱石英管的沖擊 · 點(diǎn)擊此處了解如何選擇本公司石英/陶瓷管以及管式爐真空法蘭 本公司有權(quán)隨時(shí)修改PE-CVD系統(tǒng)的設(shè)計(jì)不再另行通知,但我們保證修改之后的儀器質(zhì)量可以達(dá)到和超過上述標(biāo)準(zhǔn)
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