- 加熱爐設(shè)備
- 晶體及材料
- 破碎/球磨設(shè)備
- 壓片設(shè)備
- 輥壓設(shè)備
- 切割設(shè)備
- 磨拋設(shè)備
- 清洗設(shè)備
- 電池研發(fā)設(shè)備
- 薄膜制備
- 配件
- 其它實驗室設(shè)備
普通加熱平臺
- 型號：
- KJML
- 產(chǎn)品概述：
- KJML普通加熱平臺適用于加熱時不會發(fā)生性質(zhì)和形狀改變的材料，即不受加熱影響的材料。KJML普通加熱平臺主要用于科研實驗室做化學分析、物理測定、熱處理時進行物品的烘焙、干燥以及其它溫度試驗加熱。KJML加熱板采用鑄鋼材料，表面經(jīng)防腐工藝處理，通電后進行持續(xù)加熱升溫，極限溫度可達到400℃。該加熱平臺采用全封閉式加熱盤，無明火，升溫速度快，受環(huán)境影響小，安 全可靠，可加熱的極限溫度高，采用電子調(diào)溫裝置，具備無極調(diào)溫、電源雙相功能。
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技術(shù)參數(shù)產(chǎn)品視頻實驗案例警示/應用提示配件詳情
| 主要特點
|
1、外殼采用優(yōu) 質(zhì)冷軋鋼板沖壓而成，表面采用靜電噴塑工藝處理。 2、加熱板采用鑄鋼材料，表面經(jīng)防腐工藝處理。 3、采用電子調(diào)溫裝置，具備無極調(diào)溫、電源雙相功能。 4、全封閉式加熱盤，無明火，升溫快，安 全可靠。 |
| 技術(shù)參數(shù)
|
1、電源電壓：220V 50Hz 2、加熱功率：1.5KW-3KW 3、控溫范圍：RT-400℃ 4、加熱板：400mm×280mm，450mm×350mm，600mm×400mm |
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