實(shí)驗(yàn)室小課堂-如何根據(jù)應(yīng)用選擇本公司濺射鍍膜儀或蒸鍍儀
發(fā)布時(shí)間:2020-07-17
應(yīng)用 | 設(shè)備 | 特點(diǎn) | |
1 | 表面鍍貴金屬用于薄膜研究(<2”) | 同一腔室中3靶頭用于貴金屬的濺射鍍膜 | |
2 | 表面鍍各種金屬用于薄膜研究(<2”) | ?磁控濺射鍍膜 ?最大濺射電流可達(dá)150mA,?可用于濺射各種輕金屬如Al, Sn, Zn 等 | |
3 | 表面鍍絕大多數(shù)的金屬或無機(jī)非金屬材料薄膜(<2”) | ?高真空蒸發(fā)鍍膜儀 ?蒸鍍溫度從200-1500℃(或選配B型熱電偶,蒸鍍溫度可從1200-1700℃) | |
4 | 表面鍍氧化物薄膜(<2”)
| 1英寸或2英寸300W射頻等離子磁控濺射儀VTC-2RF | ?低成本 ?射頻電源 |
5 | 各種材料表面進(jìn)行光學(xué)涂層(多晶)(<4”) | ?分子泵高真空 ?4個(gè)蒸鍍加熱舟 | |
6 | 金屬及無機(jī)非金屬氧化物薄膜的外延生長(<4”)
| ?配備有直流以及射頻電源,分子泵 ?可用于各種材料薄膜的外延生長 ?同時(shí)配備測厚儀實(shí)時(shí)監(jiān)控薄膜厚度 |
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